为摆脱日本技术限制韩国SK海力士推进EUV光刻胶国产化

12月7日消息，此前日本将断供光刻胶的传闻曾引发广泛关注，尽管日本方面已对该传闻予以否认，但不可否认的是，在光刻胶这一领域，日本企业确实占据着主导地位，对全球多数半导体公司形成了较强的供应制约。

尤其是在先进的EUV光刻胶领域，当前主要由日本的JSR、信越化学、东京应化TOK等企业所掌控。前几年日本和韩国发生争端后，日本曾暂停对韩国出口光刻胶等三种关键材料。

这几年韩国持续推进半导体核心技术与材料的国产化进程。此前曾有消息称韩国已攻克EUV光刻胶难题，但事实并非如此——所谓的“解决”，不过是日本企业为规避政策限制，将对韩供应渠道从本土工厂调整为海外子公司，韩国三星、SK海力士等企业至今仍依赖日本企业的EUV光刻胶供应。

和三星不同，SK海力士的核心业务是存储芯片的生产，之前对EUV光刻胶的需求相对较低。不过，随着芯片制造工艺的不断升级，内存芯片领域也需要大规模应用EUV光刻工艺，所以SK海力士也选择与韩国的东进世美肯公司携手，共同开展EUV光刻胶的研发工作。

双方合作开发的产品，其目标不只是要替代日本公司的EUV光刻胶，更要在性能层面实现对日本同类产品的超越，尤其是在光敏性这一关键指标上做到更优，从而助力提升生产效率。

光刻胶的光敏性越强，所需的曝光时间就越短，生产效率也会随之提高。即便是同类型的EUV光刻机，不同的先进EUV光刻胶在生产能力上也存在差异。

随着内存芯片的制程持续向10nm乃至更先进的10nm以下节点推进，所需的EUV光刻层数也在逐步攀升。以第七代1d工艺为例，其EUV光刻层数已达7层，并且这一数值在未来仍将呈现持续增长的态势。