全国产化！中国首条12英寸硅光芯片流片平台正式投入使用

11月11日消息，据“中国光谷”微信公众号报道，近日，国内首条依托12寸40nm CMOS工艺线打造的全国产化硅光PDK（工艺设计套件）、TDK（测试设计套件）与ADK（封装设计套件）流片服务平台，已在光谷正式投入使用。

这个平台由国家信息光电子创新中心（NOEIC）负责建设与运营，这一成果表明光谷企业在硅光领域再次取得了关键突破。

据介绍，传统芯片依赖电子来传输数据，就像用汽车运送货物；而硅光芯片是让光子在光纤中穿梭，摇身一变成了“光速高铁”。

该平台创新性地打造了硅光MPW服务模式，借助把多个芯片设计整合到同一片晶圆进行流片的方式，达成成本分摊，显著降低了研发的准入门槛。

国家信息光电子创新中心硅光芯片

平台依托40nm制程研发的硅光PDK1.0，整体性能已满足商用标准，在加工精度、波导损耗、光耦合效率等关键指标上均处于国际先进行列。

据了解，除PDK外，该平台还集成了TDK与ADK，能够为芯片从集成设计到封装验证的全流程提供支撑，可满足科研成果转化以及产品研制过程中快速迭代的需求。

国家信息光电子创新中心硅光芯片加工场景

近年来，随着技术的日益成熟以及人工智能需求的爆发式增长，硅光芯片在人工智能、大数据等前沿产业领域开始得到大规模的应用。

咨询机构LightCounting预测，到2030年，硅光芯片在光通信芯片市场的占比将提升至60%。